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獲得超精密的加工精度，膠南磨加工，仍有賴于精密的加工設備和精準的控制系統，并采用超精密掩膜作中介物。例如超大規模集成電路的制版就是采用電子束對掩膜上的光致抗蝕劑（見光刻）進行曝射，使光致抗蝕劑的原子在電子撞擊下直接聚合(或分解)，再用顯影劑把聚合過的或未聚合過的部分溶解掉，外圓磨加工，制成掩膜。電子束曝射制版需要采用工作臺定位精度高達±0.01微米的超精密加工設備。
超精密加工技術的發展也促進了機械、液壓、電子、半導體、光 學、傳感器和測量技術以及材料科學的發展。從某種意義上說 ，超精密加工對先進制造技術特別是納米技術對整個社會生產力水平的提高起到舉足輕重的地位，也成為衡量一個國家科技發展的標準之一 。 目前超精密加工還沒有確切的定義，一般是指達到加工精度為0.1μm或表面粗糙度 為Ra 0.0lμ m以及達到加工允差和加工尺寸之比為106的加工技術。超精密加工對環境的要求十分嚴格
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